很详实的数据做支撑，那一组组数据的确就像实验室里拿出来的一样。还有对这些数据的分析，真的太详实了。
最重要的是，如果这还只是停留在纸面上的机器，谁会无聊到去为一个根本还没有造出实体的机器去开发一套适配的控制系统？
要知道同时控制28束光的控制系统对于稳定性跟精度的要求近乎都是变态级的。
就好像阿斯麦最先进的极紫外光刻机，首先要将高功率二氧化碳激光脉冲经过几面绝对平整的镜片反射后，照射到一个直径仅仅只有30微米的锡滴液靶材上，然后激发出高功率的13.5纳米等离子体，并依靠这些等离子体产生波长为13.5纳米的euv光源对晶圆进行曝光雕刻。
其控制单元对于精度要求之高可见一斑。
虽然乔泽在论文中的设计，对于仪器精度的要求降低了不少。但这毕竟是光刻机，其功能是将无数的晶体管雕刻在硅晶圆上。对稳定性跟精度的要求摆在那里。
更重要的是，这玩意儿如果是真的话，那么相当于同时二十八台光刻设备同时工作，同时加工生产不同制程不同功能的芯片，而且每条通道还能根据生产需要，对光源进行即时调整。
其生产效率跟生产灵
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